СИТРОНИКС и COMNEWS провели круглый стол по микроэлектронике

За круглым столом встретились первые лица ведущих российских и мировых компаний, научных институтов российской полупроводниковой отрасли: генеральный директор ОАО "НИИМЭ и Микрон" Геннадий Красников, директор Физико-технологического института РАН Александр Орликовский, вице-президент дизайн-центра КМ211 Дмитрий Пустов, директор центра разработки высокотехнологичных систем «Гласис-центр» Борис Васильев, директор московского филиала компании «Синопсис» (Synopsys) Елена Иванова и советник генерального директора ЗАО «НПФ «Микран» Александр Данилин.

Ключевой темой мероприятия стали вопросы выбора эффективного пути развития российской микроэлектроники, получения доступа к передовым технологиям и накопления интеллектуальной собственности в России. Участники обсудили перспективы локализации внутри страны всей производственной цепочки микроэлектроники: возможности формирования микроэлектронного кластера, пути преодоления технологического отставания, организация работы Особых Экономических Зон (ОЭЗ), стимулирование локализации производства в России, а также создание условий для появления новых рынков сбыта.

«Благодаря созданию в Зеленограде производства чипов с топологическими нормами 180/90 нм и вниманию государства к проблемам российской микроэлектроники интерес к нашей стране со стороны глобальных компаний растет, - комментирует Геннадий Красников. – Так, уже сейчас 50 компаний из 12 стран мира стали поставщиками оборудования и материалов для нашего проекта. В условиях формирования микроэлектронного кластера вокруг производства «Микрона» мероприятия, подобные сегодняшнему, на которых можно услышать позицию ведущих мировых компаний по вопросам локализации их мощностей в России, чрезвычайно важны и полезны. Микроэлектронные решения лежат в основе 90% инноваций, поэтому будущее государства, его обороноспособность и уровень жизни граждан напрямую зависят от развития национального полупроводникового сектора. В декабре 2010 года мы получили тестовые структуры чипов с топологией 90 нм, которые были сертифицированы на соответствие требованиям международного стандарта. Запуск промышленного производства, запланированный на IV квартал 2011 года, позволит России войти в десятку стран, обладающих этой технологией».